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表1-1显示了介电常数和电介质的小厚度用类型的电容器。采用容,自物质具有异的耐电压厚度。并且电介可以自由据的容器。因与他质相比,电压相近耐久性由氧化铝电介质提供如果厚度(上式中的“d”)很薄。此外,通刻铝箔表面,箔的效面积与表观相比面积可以放大80~,适用器和中/高压30~40电容。
因此,铝电解电容器对于定的表观区域具有高的电容比其他类型的电容器。用于阳的纯度铝箔被蚀刻在DC的氯化物溶液中的电化学过程,AC,或DC和AC的改变,或同时AC和直流电流。细表面蚀刻(照片1-1)通常使用主要通过AC电解完成的用于低压箔。隧道蚀刻(照片1-2)主要通过直流电解实现中间使用/高压箔。阴箔的主要部分是通过AC电解完成增量。
纯度蚀刻铝箔在a。中阳氧化硼酸 - 铵水型溶液,例如,在其表面上形成氧化铝层。这个氧化铝层就是我们所说的电介质铝电解电容器。直流电压即应用于箔以氧化阳箔称为“形成电压”。电介质的厚度乎开关电源成正比形成电压和测量近似的箔和相互面对的阴箔与电解纸交错并缠绕成电解纸圆柱形。这被称为“电容器元件”。在这个阶段,它配置了一个电容器考虑电解纸和氧化铝层然而,为了电介质,该单元具有很少的电容。